鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能
檢 出 限:亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性:RSD ≤ 0.5%(1mg/L) 長期穩(wěn)定性:RSD ≤ 1.0%(4h,1mg/L)
光 ?源
自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,功率連續(xù) 1 瓦可調(diào) 震蕩頻率:27.12MHz
輸出功率:700W-1600W 功率穩(wěn)定性:
儀器規(guī)格
尺寸:寬 x 深 x 高(106cm x 67cm x 75cm) 重 ?量:約 180kg
光學系統(tǒng)
分析譜線范圍:165-950nm
分 ?辨 ?率: 0.007nm@200nm
光室恒溫:38℃ ±0.1℃
CCD 像素:1024x 1024
單像素面積:24μm x 24μm
工作環(huán)境
實驗室濕度環(huán)境:相對濕度 20%~80% 氬氣純度:不小于 99.95%
排 ?風:不小于 400 立方米 / 小時
電 ?源:200V~240V AC 單相;50Hz~60Hz;4kVA
ICP光譜儀
目前ICP光譜儀主要分為多道型、單道掃描型以及全譜直讀型,其中多道型和單道掃描型代表的是80年代的技術(shù)水平,它們以光電倍增管為檢測器,技術(shù)上非常成熟,但也較落后,其中多道型已幾乎退出歷史舞臺,ICP光譜分析儀,單道掃描型以其合適的價格和靈活方便仍占有一定的市場份額。全譜直讀型儀器代表了當今ICP的新技術(shù)水準,它以CID或CCD(SCD)半導體器件為檢測器;中階梯光柵結(jié)合棱鏡(或平面光柵)構(gòu)成二維、高分辯率、高能量色散系統(tǒng),能同時獲得各元素譜線的信息。此類型儀器經(jīng)近十年的不斷完善和發(fā)展,ICP光譜分析儀廠家,目前已成為ICP光譜儀的主流。
鋼研納克 Plasma2000 全譜ICP光譜儀
Plasma2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是鋼研納克在首批“國家重大科學儀器設備開發(fā)專項”支持下研發(fā)的二維全譜高分辨ICP光譜儀,是國產(chǎn)全譜ICP光譜儀革命性產(chǎn)品,曾斬獲中國儀器儀表行業(yè)協(xié)會“自主金獎”等一系列榮譽,在業(yè)界獲得廣泛的好評。美觀精致的高顏值工業(yè)設計,優(yōu)異穩(wěn)定的測試性能源于納克近四十年ICP行業(yè)經(jīng)驗。Plasma2000擁有
1、中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),徑向觀測,ICP光譜分析儀價格,具有穩(wěn)健的檢測能力。
2、 有效穩(wěn)定的自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,體積小巧,匹配速度快,確保儀器的精度較高運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。
3、 高速面陣CCD采集技術(shù),單次曝光獲取全部譜線信息,真正實現(xiàn)“全譜直讀”。
4、 功能強大的軟件系統(tǒng),簡化分析方法的開發(fā)過程,為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。
可廣泛應用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領域的元素分析。
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